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  • 微波電漿輔助化學氣相沉積 (MW-PECVD)
  • 高溫爐式化學氣相沉積 (Thermal-CVD)
  • 離子束濺鍍沉積 (IBSD)
  • 磁控濺鍍沉積 (MSD)
  • 快速升溫系統 (RTP/RTA)
  • 熱蒸鍍沉積 (VPD)
  • 感應耦合電漿輔助反應離子刻蝕 (ICP-RIE)
  • 有機金屬化學氣相沉積(MO-CVD)